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材料樣品處理 小型蒸鍍儀
小型蒸鍍儀 KT-Z1650CVD高溫蒸鍍儀
KT-Z1650CVD高溫蒸鍍儀
 產(chǎn)品簡介
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                  高溫蒸鍍儀,KT-Z1650CVD,石英+不銹鋼腔體,觸摸屏控制,工藝儲存功能,自動電控擋板保護樣品
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 | 
高溫蒸鍍儀,KT-Z1650CVD,石英+不銹鋼腔體,觸摸屏控制,工藝儲存功能,自動電控擋板保護樣品
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到最大電流密度,使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)。基于這點,出現(xiàn)了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標準配置,此泵作為機械真空泵的后級泵,真空為全自動控制,真空度優(yōu)于1x10-5 mbar??蛇M行預(yù)熱及除氣控制,同時用瞬時蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進行。
標準的旋轉(zhuǎn)樣品臺可進行傾斜調(diào)節(jié),非常容易適應(yīng)各種樣品座。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
 原樣品沒有鍍膜
   原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵
  115A 100秒 機械泵
 115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 100秒 分子泵抽12分鐘     115A 120秒 分子泵抽20分鐘
  115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD
| 控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 | 
| 加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 | 
| 鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 | 
| 最大功率 | ≤1200W | 
| 最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A | 
| 真空度 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa | 
| 擋板類型 | 電控 | 
| 真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm | 
| 樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (最大可安裝φ50基底) | 
| 樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 | 
| 樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm | 
| 蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ | 
| 支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 | 
| 預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 | 
| 可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |