 
    產品中心
Product Center 產品簡介
產品簡介
                  小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存,高性價比,非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
| 品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 | 
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,電子/電池 | 
一、技術原理:
(1)小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
(2)通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。
二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:
★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;
★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計;
★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻;
★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★7寸顯示器定時定點調節(jié)電流,達到控制功率效果;
★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果;
★配置了靶臺擋板,可手動調節(jié)或自動調節(jié)擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果;
三、技術支持&服務:
1.技術支持:在合同簽訂之前,我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設計,使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。
2.安裝與培訓:在產品使用前,我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術支持、培訓及演示服務。
3.產品質保:我們對產品提供12個月的質保期,在質保期內發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)
4.終身維護:我們對提供的產品提供終身服務,對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。
         
  
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
 原樣品沒有鍍膜
   原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵
  115A 100秒 機械泵
 115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 100秒 分子泵抽12分鐘     115A 120秒 分子泵抽20分鐘
  115A 120秒 分子泵抽20分鐘

四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料:
| 控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 | 
| 加熱方式 | 數(shù)字式功率調整器 | 
| 鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 | 
| 最大功率 | ≤1200W | 
| 最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A | 
| 真空度 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa | 
| 擋板類型 | 電控 | 
| 真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm | 
| 樣品臺 | 可旋轉φ62 (最大可安裝φ50基底) | 
| 樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 | 
| 樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離 | 70-140mm | 
| 蒸發(fā)溫度調節(jié) | ≤1800℃ | 
| 支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 | 
| 預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 | 
| 可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |